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首頁 化學(xué)試劑原料 化學(xué)通用試劑
二氧化硅/納米二氧化硅
Silicon dioxide
別名: 硅氧,硅土,硅酐,白炭黑,水晶,石英,硅石,氧化硅 Silica Silicic anhydride Cristobalite Quartz Sand
Cas號: 60676-86-0/7631-86-9 M D L: --MFCD00011232
分子式: SiO2 分子量: 60.08
貨號 品名 規(guī)格 包裝 單價(jià) 貨期 庫存
JD180108153515 納米二氧化硅 0.5微米 100g 300元 咨詢客服 3天
JD1227188738 二氧化硅 200納米 500g 150元 現(xiàn)貨 14
JD1227188737 二氧化硅 100納米 500g 150元 現(xiàn)貨 14
JD1227144040 二氧化硅晶體 99.999%,直徑2mm,高度10mm,圓柱體狀 100g 200元 現(xiàn)貨 70
JD1227144039 二氧化硅晶體 99.999%,直徑2mm,高度10mm,圓柱體狀 25g 70元 3天
JD1227144038 納米二氧化硅 99.5%,15±5nm 500g 136元 現(xiàn)貨 14
JD1227144036 納米二氧化硅 99.5%,30±5nm 500g 134元 現(xiàn)貨 14
JD1227144035 納米二氧化硅 99.5%,50±5nm 500g 124元 現(xiàn)貨 14
JD1227144033 二氧化硅晶體 1-3mm 顆粒,99.999% 100g 206.8元 3天
JD1227144031 二氧化硅晶體 1-3mm 顆粒,99.999% 25g 107.8元 3天
JD1227144030 二氧化硅 99.99% 500g 206.8元 現(xiàn)貨 14
JD1227144029 二氧化硅 99.9% 500g 88元 現(xiàn)貨 14
JD1227144028 疏水性氣相納米二氧化硅 99.8%,比表面積(BET):120m2/g;粒徑:7-40nm 500g 190元 現(xiàn)貨 14
JD1227144027 親水性氣相納米二氧化硅 99.8%,比表面積(BET):380m2/g;粒徑:7-40nm 500g 128元 現(xiàn)貨 14
JD1227144026 親水性氣相納米二氧化硅 99.8%,比表面積(BET):200m2/g;粒徑:7-40nm 500g 128元 現(xiàn)貨 14
JD1227144025 二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液 100mg/L,基體:0.05%Na2CO3 80ml 206.8元 3天
JD1227144024 二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液 1000μg/ml 50ml 151.8元 3天
JD1227144023 二氧化硅 GR 500g 60元 現(xiàn)貨 1
JD1227144022 二氧化硅 AR 500g 40元 現(xiàn)貨 1
物流提示:偏遠(yuǎn)地區(qū)如新疆西藏寧夏甘肅等地可能無法運(yùn)送液體,下單前請聯(lián)系客服。
性狀: 白色或無色細(xì)小顆粒,含鐵較高的是淡黃色。不溶于水和酸(除氫氟酸),溶于氫氟酸而成四氟化硅氣體,能溶于堿。
密度:2.2 ~2.66
熔點(diǎn):1670℃
沸點(diǎn):2230℃
折光率n20/D:1.544
   利用氯硅烷在氫氧火焰中高溫水解制得的氣相二氧化硅(俗稱氣相法白炭黑)是一種白色、無毒、無味、無定形的無機(jī)精細(xì)化工產(chǎn)品。氣相二氧化硅原生粒徑在7~40納米,比表面積在70~400m2/g之間。分親水性和疏水性,疏水氣相二氧化硅是利用有機(jī)物與親水型氣相二氧化硅表面的硅羥基反應(yīng),把有機(jī)基團(tuán)以化學(xué)鍵的形式連接到親水型氣相二氧化硅表面,從而使氣相二氧化硅呈現(xiàn)永久的疏水性質(zhì)
質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn): Q/(HG)SJ 510-91(輕質(zhì))
項(xiàng)目ltem                   分析純  化學(xué)純
                             (AR)    (CP)
灼燒失重Ignition loss,%              ≤ 1.5     3.0
氯化物(Cl)Chloride,%                 ≤ 0.001   0.005
鐵(Fe)Iron,%                         ≤ 0.002   0.005
氫氟酸不揮發(fā)物Novolatile
in hydrofluoric acid,%               ≤ 0.2     0.5

項(xiàng)目ltem                   分析純   化學(xué)純
                             (AR)      (CP)
粒度(270目)Granisize,%               ≥ 90         90
含量(SiO2)Assay,%                    ≥ 99.5       99.0
灼燒失重Ignition loss,%              ≤ 2.0        3.0
氯化物(Cl)Chloride,%                 ≤ 0.001      0.005
鐵(Fe)Iron,%                         ≤ 0.002      0.005


項(xiàng)目ltem                   分析純   化學(xué)純
                             (AR)      (CP)
水可溶性物Soluble matter
in water,%                           ≤ 0.2       0.5
氫氟酸中不揮發(fā)物Novolatile
in hydrofluoric acid,%               ≤ 1.0       2.0
干燥失重Drying loss,%                ≤ 7.0       10.0
氯化物(Cl)Chloride,%                 ≤ 0.005     0.01
硫酸鹽(以SO4計(jì))Sulfale,%             ≤ 0.005     0.01
鈣(Ca)Calcium,%                      ≤ 0.005     0.01
鐵(Fe)Iron,%                         ≤ 0.005     0.01
重金屬(以Pb計(jì))Heavy metals,%         ≤ 0.005     0.01


親水氣相二氧化硅:


比表面積Specific surface area (BET) m2/g          200±30
懸浮液pH值(4%)pH-value in 4% dispersion         3.6~4.5
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小時 )  %      ≤1.5
灼燒減量Loss on ignition(1000℃燃燒 2h ,基于105℃干燥2h后產(chǎn)物 ) % ≤2.5
粒徑particle size                                7~40nm
曬余物Sieve residue (45μm) %                     ≤0.05
二氧化硅含量Silica content (基于灼燒后產(chǎn)物) %    ≥99.8
表現(xiàn)密度Tamped density (基于105℃干燥2h后產(chǎn)物)   25~60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后產(chǎn)物 ), % ≤0.2

疏水氣相二氧化硅:


比表面積Specific surface area (BET) m2/g          120±15
懸浮液pH值(4%)pH-value in 4% dispersion        3.7~4.5
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小時 )  %      ≤0.5
灼燒減量Loss on ignition(1000℃燃燒 2h ,基于105℃干燥2h后產(chǎn)物 ) % ≤2.5
粒徑particle size                                7~40nm
曬余物Sieve residue (45μm) %                     --
二氧化硅含量Silica content (基于灼燒后產(chǎn)物) %    ≥99.8
表現(xiàn)密度Tamped density (基于105℃干燥2h后產(chǎn)物)   25~60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后產(chǎn)物 ), % 0.6 ~1.3

備注:疏水性二氧化硅產(chǎn)品已用二甲基二氯硅烷處理

99.5%,30±5nm :


外觀Appearance (Color)                  類白色粉末
干燥損失Loss on Ignition (1100 °C, 1 Hr) ≤2.0 %
純度Purity                              ≥99.5% (GC)
Size                                    50±5nm
ICP: Confirms Silicon Component Confirmed
Trace Metal Analysis                    ≤5000.0 ppm

貯存: 用途  制造玻璃陶瓷,磨蝕劑,油類的脫色,提純硅鐵,分析測定硼、砷和銀等。密封保存。